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新聞資訊

2018-04-18
五氧化三鈦鍍膜前的處理

真空中制備膜層，包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學氣相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜...
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2018-04-12
硫化鋅ZnS光學材料

硫化鋅分子量97.44，密度4.09，熔點1830℃，在10-2Pa真空度下的蒸發溫度為1200℃（升華）?？捎面u、鉬、鉭舟加熱蒸發，也可用石英坩堝加熱蒸發，...
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