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2018-04-20
氟化鎂鍍膜-不同規格類型在鍍膜應用上的區別
MgF2是應用最早的、最常用的、性能優良的光學鍍膜材料。然而，由于其制備工藝過程不同所造成的材料內部組織結構上的差異，最終對真空鍍膜工藝和薄膜光學性能...
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2018-04-20
一氧化硅鍍膜料-性能和應用
一氧化硅分子量44.09，密度2.1g/cm3，熔點1700℃，在10-2Pa真空下的蒸發溫度為850℃?？捎面u、鉬、鉭舟加熱蒸發，用電子束加熱蒸發效果很好。一氧化硅薄膜...
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2018-04-20
二氧化鋯薄膜表面粗糙度研究
二氧化鋯（ZrO2)薄膜材料具有膜層吸收小以及膜層牢固、抗腐蝕等許多優良特性，擁有很強的抗激光損傷能力和非常寬的光譜透明范圍，是光學薄膜中重要的...
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2018-04-19
二氧化硅薄膜應用領域及特性
SiO2薄膜具有良好的硬度、光學、介電性質及耐磨、抗蝕、機械等特性，在光學、微電子等領域有著廣泛的應用前景。SiO2薄膜已經是一種普通應用于各個領域的重要...
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2018-04-19
二氧化鈦膜料-白色和黑色的區別
二氧化鈦是一種高折射率材料，適于電子槍蒸鍍，膜層致密，牢固，抗化學腐蝕?？煞譃榘咨秃谏?。顏色的不同主要因為生產環境的因素，白色是在大氣中燒結而成...
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2018-04-19
硒化鋅生產工藝-PVD與CVD的區別
硒化鋅材料是一種黃色透明的多晶材料，被廣泛用于制作遠紅外10.6μm/CO2大小功率激光器上各種透鏡、反射鏡及偏振鏡等。常見的硒化鋅材料有CVD和PVD兩種...
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